Mit dem Ionenstrahlätzsystem Leica EM TIC 3X können plane Oberflächen und Querschnitte von Proben aus beliebigem Material für die Elektronen- oder Lichtmikroskopie bei Raumtemperatur hergestellt werden. Unter Hochvakuum werden mit drei überkreuzenden Ionenstrahlen Abtraggeschwindigkeiten von bis zu 300 µm/h erreicht. Die Ionen können dabei mit Energien zwischen 1 keV und 10 keV erzeugt werden.

Es können sowohl von polierten Proben die Artefakte der mechanischen Probenpräparation durch Ionenpolieren (flat-milling) entfernt als auch präzise positionierte Querschnitte und hochwertige Oberflächen von grob vorbereiteten Proben erzeugt werden. Weiterhin kann durch Bearbeitung mit niedriger Energie eine Erhöhung des Kontrasts der Oberflächentopografie polierter Proben erzeugt werden.

Es können Proben bis zu einer Größe von 50 x 50 x 10 mm oder einem Durchmesser von 38 mm bearbeitet werden.